旧单晶硅炉苏州昆山真空流量计的厂家3，信号回路：能及时反映或显示设备和线路正常与非正常工作状态信息的回路，如不同颜色的信号灯，不同声响的音响设备等，4，自动与手动回路：电气设备为了提高工作效率，一般都设有自动环节，但在，调试及紧急事故的中，控制线路中还需要设置手动环节，通过组合关或转换关等实现自动与手动方式的转换。与氩 气输入管12相连通的环形气体分布器11，其特征在于经氩气输入管12 输入的氩气气压为0. 8 x 103Pa0. 9 x 103Pa，氩气流量为30L/min。还包括设于该炉的坩埚支持器14下方和该部的排气口 13之间 的碗形的气流导向装置20，其包括设于气流导向装置20底部的中轴 孔2-l，设于所述中轴孔2-1两侧的一对电极孔2-2。本实施例的直拉式单晶生长炉包括氩气输入管12为现有技术的切克劳斯基(直拉)法硅单晶的直拉式单晶生长 炉的剖面结构示意图2为图1中的氩气输入管与环形气体分布器的结构示意图3为实施例1中直拉式单晶生长炉的气流导向装置的结构示意图4为图3的A-A剖面视图5为为图3的B-B剖面视图6为实施例1中直拉式单晶生长炉的剖面结构示意图7为实施例1中直拉式单晶生长炉的另一剖面结构示意图。具体实施方式以及设于所述中轴孔 2-1两侧并与该炉的排气口 13相对的通气孔2-3，该炉的石墨中轴21穿过所述气流导向装置20的中轴孔2-1，该炉的一对电极柱15分别穿过所述电 极孔2-2，该炉的排气口 13与气流导向装置20的各通气孔2-3相连通，气 流导向装置20的上端部2-4设于该炉的保温筒17与发热体16之间。
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主机部分：机架单晶硅生长炉原理简介单晶硅生长炉的特点\单晶硅生长炉是通过直拉法生产单晶硅的设备。主要由主机高像素CCD测径ADC系统和具有知识产权的“全自动Cz法晶体生长SCADA系统”，可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。后，待大部分硅溶液都已经完成结晶时，再将晶体逐渐缩小而形成一个尾形锥体，称为收尾工艺。这样一个单晶拉制过程基本完成，进行一定的保温冷却后可以取出。放大晶体直径到工艺要求的大小，一般为75～300mm，这个过程称为放肩，接着，突然提高拉速进行转肩操作，使肩部近似直角，然后，进入等径工艺，通过控制热场温度和晶体提升速度。且可减少热 能及氩气消耗的直拉式单晶生长炉。实现本发明目的的技术方案是一种直拉式单晶生长炉，其包括 氩气输入管，与氩气输入管相连通的环形气体分布器，其特征在于经氩 气输入管输入的氩气气压为0. 8xl03Pa0. 9xl03Pa，氩气流量为 30L/min。上述技术方案中。本发明的目的是一种易于及时排出炉内的混合气体发明内容还包括设于直拉式单晶生长炉的坩埚支持器下方和 该部的排气口之间的气流导向装置以防止 因该中轴孔与石墨中轴之间的间隙而漏气抗氧化(2)本发明 的直拉式单晶生长炉中整个炉内的一氧化硅与氩气的混合气体(包 括坩埚支持器下方的混合气体)能通畅地排出炉外本发明的气流导向装置的一对通气孔与该炉的 一对排气口相 对设置，缩短了排气管路，利于提高排气效率。
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控制器的主要目的是保持输出电压稳定，其工作过程与线性形式的控制器很类似。也是说控制器的能块，电压参考和误差放大器，可以设计成与线性调节器相同。他们的不同之处在于，误差放大器的输出（误差电压）在驱动率管之前要经过一个电压/脉冲宽度转换单元。分子泵，真空泵，真空流量计，plc编程，控制屏，离子泵，涡轮分子泵，螺杆真空泵，涡旋高真空泵，仪表系统此部分除架空裸电线外几乎其他所有产品均有应用，但主要是电力电缆、电磁线、数据电缆、仪器仪表线缆等。电炉精炼过程通过对各阶段钢样和渣样的分析、温度的测定来调整和控制。在精炼期，除碳的氧化物成为气态逸出外，其他元素的化合物为固态或液态，分别浮入渣中，或留在钢液内。精炼是把对钢质有害的一些元素和化合物，尽可能地从钢液中排除掉。
